Browsing by Author "Муравський, Л. І."
Now showing 1 - 3 of 3
- Results Per Page
- Sort Options
Item Вплив шумів оптико-цифрової системи на точність вимірювання геометричних параметрів бінарних тіньових зображень(Видавництво Державного університету "Львівська політехніка", 2000) Муравський, Л. І.The analysis of an optical-digital system (ODS) noise is carried out. The working formula for calculation of an ODS noise error for size definition of an object's binary shadow image is founded. It is shown, that an ODS noise error is decreased, if a resolution of an ODS optical link is increased.Item Оптико-цифрова система ідентифікації фазових масок(Видавництво Державного університету «Львівська політехніка», 2000) Муравський, Л. І.; Кулинич, Я. П.; Вороняк, Т. І.На базі архітектури корелятора спільного перетворення Фур’є створено макет гібридної оптико-цифрової системи ідентифікації фазових та трансформованих фазових масок. Проведена оцінка мінімальних розмірів оптичної ланки системи. Наведена процедура ідентифікації трансформованих масок, що вводяться на вхід системи. Отримано і проаналізовано залежності співвідношення пік/шум для кореляційних піків, що формуються на виході системи, від ефективної фокусної віддалі оптичної ланки системи та від розмірів апертури реєстрації спільного енергетичного спектру.Item Оцінка інтерференційного шуму при кореляційному аналізі випадкових бінарних фазових масок в оптичній інформаційній системі(Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”) Муравський, Л. І.; Фітьо, В. М.; Фізико-механічпий інститут ім. Г. В. Карпенка НАН України; НУ “Львівська політехніка”It is considered the models of an interference noise producing as a result of a cross-correlation of two random binary phase masks consisted of phase elements with binomial spatial distribution. The process of an interference noise producing on the first diffraction order of the joint transform correlator is analyzed. It is shown, that the signal-to-noise ratio on the correlator’s output is increased, if a quantity of phase elements in two masks is enlarged.