Browsing by Author "Jakubowska, Małgorzata"

Now showing 1 - 4 of 4

A study of the feasibility of using low cost thick film tracks in the lower part of the microwave spectrum
(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Jakubowska, Małgorzata; Pitt, Keith; ITME Institute of Electronic Materials Techology, Warsaw, Poland; Middlesex University, London, UK
Conventionally it is accepted that conductors for low microwave applications should meet a range of electrical and topographic criteria in order to perform correctly. These include a minimum thickness due to skin effects, smooth track and substrate surfaces and rectilinear geometry. The metal must also be very dense and uniform and have the highest possible electrical conductivity. As a result, photolithographically defined gold tracks are preferred and may be made in either thick or thin film.
Electrical, mechanical and thermal properties of thick film resistors on dielectrics
(Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”, 2005-03-01) Jakubowska, Małgorzata; Pitt, Keith; Institute of Electronic Materials Technology, Warsaw; Middlesex University, London
Описано останні дослідження в області сумісності товстоплівкових та резистивних комбінацій. Розглянуті причини реакції між матеріалами та подальші зміни в електричних параметрах. Новорозроблені серії резисторів на основі оксиду рутенію демонструють значно кращу електричну і механічну сумісність, ніж старі комбінації. Термографічне картографування і комп’ютерне моделювання розподілу теплових полів навколо нагрітого резистора демонструють значне зростання на нижньому провідному шарі.
High ohmic measurements of thick film glass layer insulators
(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Jakubowska, Małgorzata; Grzesiak, Wojciech; Institute of Electronic Materials Technology, Poland; Institute of Electron Technology, Poland
Thermal residual stresses in thick film structures resistor on dielectric – FEM analysis
(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Jakubowska, Małgorzata; Golański, Dariusz; Kaliński, Dariusz; Hotra, Zenon; Lviv Polytechnic National University; Rzeszów University of Technology; Warsaw University of Technology; Institute of Electronic Materials Technology
This paper presents the results of calculations performed using the finite element method (FEM) which include a comparative analysis of residual stress state induced in thick film structures resistors on dielectrics which differ from one another in materials used to perform dielectric layers. This analysis permitted us to test the materials examined in terms of the level and distribution of the residual stresses developed in the structure.