Browsing by Author "Іжнін, І. І."

Now showing 1 - 4 of 4

Легкі дірки в CdxHg1-xTe
(Видавництво Державного університету "Львівська політехніка", 2000) Іжнін, І. І.
У роботі експериментально визначено параметри важких та легких дірок (концентрацію та рухливість) в однорідних зразках р-CdxHg1-xTe (х=0,2-0,23) на основі дослідження польових залежностей коефіцієнта Холла та порівняно з результатами теоретичних розрахунків концентрацій на основі сучасних уявлень про параметри матеріалу. Отримані дані про параметри легких дірок дають можливість врахувати вплив цих носіїв на явища переносу в багатошарових структурах на основі CdxHg1-xTe. The parameters of heavy and light holes (concentration and mobility) for homogeneous samples of р-CdxHg1-xTe (х=0,2-0,23) were determined from investigation of the Hall coefficient field dependencies. These data have been compared with results of theoretical computations based on the modern knowledge of the material’s parameters.
Модифікація електрофізичних властивостей епітаксійних шарів РbТе в умовах низькоенергетичного бомбардування
(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2001) Берченко, M. M.; Богобоящий, В. В.; Іжнін, І. І.; Савицький, Г. В.; Юденков, В. О.; Національний університет “Львівська політехніка”; Кременчуцький державний політехнічний інститут; Львівський науково-дослідний інститут матеріалів НВП “Карат”
Вперше експериментально досліджено вплив низькоенергетичних іонів Аг в процесі іонно-променевого травлення (ІПТ) на електрофізичні властивості епітаксійних шарів РbТе p-типу та n-типу провідності. Показано, що така обробка призводить до p-n конверсії типу провідності в р-РbТе та зростаннюя концентрації електронів в n-РЬТе при зменшенні їх рухливості. Зміни властивостей відбуваються по усій товщині епітаксійних шарів (приблизно 2 мкм). Характер змін електрофізичних властивостей свідчить про введення в процесі ІПТ додаткових донорних центрів, пов’язаних з виникненням надлишкового свинцю. Механізми перебудови системи дефектів в РbТе при ІПТ докорінним чином відрізняється від таких у CdxHg1-xTe. The influence of low energy Ar ions under ion beam milling (IBM) on electrical properties of p-and n-type conductivity of the PbTe epitaxial layers was experimentally investigated for the first time. It has been shown that such treatment causes the p-n type conductivity conversion in p-PbTe and increasing of electron concentration in n- PbTe at decreasing their mobility. The property modification takes place at whole depth of epitaxial layers (approximately 2 µm). The electrical properties change behavior evidences the introducing under IBM the additional amount of donor centers connected with lead excess. The mechanism of defect rebuilding in PbTe under IBM distinguishes radically from the same in CdxHg1-xTe.
Низькотемпературні методи модифікації властивостей CdxHg1-xTe та структур на його основі
(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Берченко, М. М.; Богобоящий, В. В.; Власов, А. П.; Іжнін, І. І.; Яковина, B. C.; Національний університет “Львівська політехніка”; Кременчуцький державний політехнічний університет; Львівський національний університет; Львівський науково-дослідний інститут матеріалів НВП “Карат
Розглянуто результати досліджень вузькощілинних напівпровідників типу CdxHg1-xTe, які знайшли широке застосування при виготовленні приладів оптоелектроніки. Основну увагу приділено визначенню параметрів й властивостей CdxHg1-xTe та границь розділу на його основі і пошуку технологічних процесів, які б дали змогу активно впливати на ці параметри. Для твердих розчинів на основі халькогенідів ртуті встановлено безпосередній зв'язок між особливостями рівноважних фазових діаграм у системах метал-халькоген- кисень і фазовим складом границі розділу напівпровідник-оксид, її механізмом росту, домінуючим типом дефектів і електрофізичними властивостями. Досліджено вплив на властивості матеріалу індукованих імпульсом лазерного випромінювання ударних хвиль та низькоенергетичного іонно-променевого травлення. Запропоновано механізм перебудови дефектної системи як в об'ємі, так і на границях розділу твердих розчинів CdxHg1-xTe під дією ударних хвиль при різних режимах ударної обробки. Встановлено, що іонно-променеве травлення, створюючи на поверхні джерело дифузії міжвузловинної ртуті надзвичайно високої концентрації, дає змогу створити в CdxHg1-xTe нові типи донорів внаслідок взаємодії акцепторних домішок з міжвузловинною ртуттю. This review article summarizes the research of CdxHg1-xTe semiconductors, which have found wide application in optoelectronic devices. The study is mainly focused on determining the properties of CdxHg1-xTe materials and interfaces to develop the technology, which would allow controlling the parameters of devices. The direct relation between the characteristic features of the metal (Hg, Cd, Zn or Mn) - chalcogen (Te, Se) - oxygen equilibrium phase diagram and experimentally discovered phenomena was revealed in Hg-based solid solutions. These include: (1) the phase composition of the growing oxide layer, (2) the predominant type of intrinsic point defects, (3) the possible mechanism of the layer growth, (4) electrical properties of semiconductor-oxide interfaces. The investigation of CdxHg1-xTe behavior under laser shock waves resulted in introducing the mechanism of rebuilding the defect environment caused by this kind of treatment. Another low temperature treatment, i.e. the low energy ion beam milling, involves a specific interaction of acceptor dopants with interstitial Hg atoms creating new types of donors in this material that seems to have good potential in creating quality p-n junctions.
Порівняльний аналіз процесів конверсії типу провідності В p-CdxHgi_xTe (x « 0,2)
(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Іжнін, І. І.; Національний університет "Львівська політехніка"
Проведено порівняльний аналіз процесів p -n -конверсії типу провідності при термічному відпалі, іонно-променевому травленні та відпалі анодного оксиду на ідентичних зразках вакансійно-легованого р-Cd^Hg^Te. Вважалося, що у всіх цих процесах конверсія зумовлена дифузією міжвузловинних атомів ртуті з відповідного джерела та рекомбінацією її з власними акцепторами - катіонними вакансіями. Показано, що ефективні коефіцієнти дифузії міжвузловинних атомів ртуті, які визначають товщину конвертованого шару, при термічному відпалі в насиченій парі ртуті та відпалі анодного оксиду для цієї ж температури є однаковими, і це свідчить про ідентичність джерела дифузії ртуті. У випадку іонно-променевого травлення величина ефективний коефіцієнт дифузії свідчить про гігантське (у 10 7- 10 8 разів) збільшення дифузійного потоку Hg порівняно з її термодифузійним потоком у насиченій парі. Збільшення дифузійного потоку Hg зумовлено утворенням поверхневого джерела Hg із надзвичайно великою концентрацією (близько 101“2 -10113J см 3), яка зростає при збільшенні густини струму іонів. The work is devoted to the comparative analysis of the p-n type conductivity processes under thermal annealing, ion-beam milling and anodic oxide annealing on identical samples of the vacancy-doped р-Cd^Hg^Te. It was assumed that in all these processes type conductivity conversion is due to mercury interstitial diffusion from corresponding source and their recombination with native acceptors - cationic vacancies. It has been demonstrated that the mercury interstitial effective diffusion coefficients which determined converted layer depth under thermal annealing in saturated mercury vapor and anodic oxide annealing at the same temperature are similar. It may witness about the identity mercury diffusion sources. Under the ion-beam milling effective diffusion coefficient value shows the giant (in 10 7-180 times) increase of the Hg diffusion flow in comparison with its thermodiffusion flow in saturated vapor. It is stipulated by the formation of the surface Hg source with extremely high concentration (approximately 10 12 -10 13 с т 3) that rises when ion current increasing.