Browsing by Author "Лаушник, Г. Ф."

Filter results by typing the first few letters
Now showing 1 - 1 of 1
  • Thumbnail Image
    Item
    Особливості двостороннього хіміко-механічного полірування (ХМП) пластин кремнію
    (Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2001) Завербний, І. Р.; Кузьо, Г. Д.; Чегіль, І. І.; Гринь, Г. В.; Лаушник, Г. Ф.; НВП “Карат”; ТзОВ “Пролог Семікор”; НТЦ “Мікроелектроніка”
    У роботі наведені результати експериментальних досліджень впливу факторів технологічного процесу двостороннього ХМП пластин кремнію орієнтації (111) і (100) n і p-типу на якість поверхні. Показано, що режимом глибокого окислення та пониженого тиску декорується дефектна структура пластин. Some results of experimental investigetion how quality of silicon plates of n and p-type with (111) and (100) orientation depends from CMP technology parameters. It was demonstrated that the deep oxydition and low pressure region decorates the defect structure of the plates.