Browsing by Author "Попович, Д. І."

Now showing 1 - 3 of 3

Дослідження процесів конденсації тонких шарів оксидних люмінофорних матеріалів з лазерної плазми
(Видавництво Національного університету «Львівська політехніка», 2000) Бобицький, Я. В.; Котлярчук, Б. К.; Попович, Д. І.; Савчук, В. К.
Описано лазерну технологічну схему синтезу окисних люмінофорних тонких шарів Y2O3:Eu, ZnO:Zn, ZnGa2O4, ZnGa2O4:Mn, ZnSiO4:Ti, ZnSiO4:Mn, Zn04Gdir6Os:Eu та вивчено їх основні структурні характеристики. Аналіз режимів лазерного напилення окисних фосфорів і спектральних характеристик паро- плазмового факелу дав змогу встановити складний взаємозв’язок між газодинамічними параметрами переносу випаруваного матеріалу на підкладку і властивостями сформованих плівок. Досліджено процеси конденсації тонких плівок з лазерної плазми та встановлено, що механізм формування окисних фосфорних плівок в кисневому середовищі має комплексний характер, де визначальними факторами є іонізація і збудження осаджуваних атомів, стимульовані їх світловим опроміненням. Laser technology of synthesis of oxide phosphor thin films Y2O3:Eu, ZnO:Zn, ZnGa2O4, ZnGa2O4:Mn, ZnSiO4:Ti, ZnSiO4:Mn, Zn0>4Gd2,6O3:Eu was developed. Basic structural, electrophysical properties were investigated. Conducted analysis of used modes of laser deposition of phosphor oxides and spectral characteristics of vapor- plasma torch enables to obtain complex relationship between the character of scattering of evaporated material and formed films properties. Investigations of thin film condensation processes from laser plasma were conducted. It was ascertained that formation of oxide phosphor films in oxygen ambience has complex character with determining factors such as ionization and excitation of sputtered atoms by light illumination.
Дослідження процесів реактивної лазерної кристалізації та модифікації властивостей тонких шарів окисних люмінофорних матеріалів
(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2001) Бобицький, Я. В.; Котлярчук, Б. К.; Попович, Д. І.; Савчук, В. К.; Національний університет “Львівська політехніка”
У роботі представлені теоретичні і експериментальні дослідження імпульсної лазерної (^=1,06 мкм) реактивної кристалізації і відпалу на прозорій підкладці Si02 попередньо осаджених аморфних фосфорних шарів Zn0:Zn, Y2O3:Eu, ZnGa2O4, ZnGa2O4:Mn. На основі вибраної теплофізичної моделі розраховані криві розподілу температурних полів в системі Zn0-SiO2 після дії лазерного випромінювання (^=1,06 мкм) з різною густиною енергії як при прямій дії, так і з боку кварцової підкладки прозорої для лазерного випромінювання. Встановлено, що у останньому випадку енергія лазерного випромінювання поглинається в основному аморфною плівкою і температурні градієнти в ній практично відсутні, що дає змогу прово¬дити однофазну структурно однорідну кристалізацію. Всі кристалізовані лазером плівки володіли катодолюмінесценцією, яскравість та спектральний розподіл якої можна змінювати зміною густини енергії лазерного випромінювання і тиску кисню в реакційній камері. The results of the theoretical and experimental investigations of pulse laser reactive crystallization processes and annealing beforehand deposited amorphous films of phosphor materials are presented in the paper. The ZnO:Zn, Y2O3:Eu, ZnGa2O4, ZnGa2O4:Mn ceramic tablets were used as targets for laser vapor deposition of amor¬phous films. At laser treatment from layer side surface overheating took place with definite temperature depth gradient. At laser treatment from substrate side, film mainly absorbs the laser radiation energy and temperature gradients in the layer are practically absent. All films crystallized by laser have cathodoluminescent properties. Laser annealing of thin layers leads to cathodoluminescense intensity increase but also to changes in radiation spectra with pulse duration.
Одержання тонких фосфорних шарів нітриду алюмінію лазерно-магнетронним напиленням
(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Бобицъкий, Я. В.; Котлярчук, Б. К.; Попович, Д. І.; Середницький, А. С.; Національний університет «Львівська політехніка»
Подані результати експериментальних досліджень процесів імпульсного реактивного лазерно-магнетронного напилення тонких шарів AIN, AlN:Mn та формування їх структурних і катодолюмінесцентних характеристик. Встановлено, що основними технологічними факторами, які визначають властивості конденсату, є густина потужності лазерного імпульсу, температура підкладки, тиск азоту в реакційній камері та потужність паро-плазмового розряду. Проведено комплекс експериментальних робіт із вивчення механічних напружень у системі AlN - Al2O3 аналізом пружних деформацій. We report on the results of experimental investigations of processes of pulse lasermagnetron reactive deposition and formation structural and cathodoluminescent characteristics of AlN, AlN:Mn thin films. It was established that, the main factors which determine condensate properties are laser pulse density, substrate temperature, nitrogen pressure in the reactive chamber and energy of vapor-plasma discharge. Report on complex of experimental works on investigation of mechanical stresses in AlN - Al2O3 system was conducted by analysis of elastic deformation.