Вісники та науково-технічні збірники, журнали

Permanent URI for this communityhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/12

Browse

Search Results

Now showing 1 - 2 of 2
  • Thumbnail Image
    Item
    Morphology of zinc deposited via cementation over magnesium rotary disc in ZnCl2+NH4Cl aqueous solutions
    (Publishing House of Lviv Polytechnic National University, 2010) Kuntyi, Orest; Zozulya, Galyna
    Zinc cementation by magnesium from ZnCl2 + NH4Cl aqueous solutions has been investigated. The amount of magnesium has been established as 0.8–2.0 g per 1 g of conditioned zinc to obtain recovery degree ³ 99 %. At low concentrations of Zn2+ ions (0.025–0.1 M ZnCl2) dispersed deposit is formed with nanoparticles of reduced metal; at high concentrations (0.25–0.5 M) coarse-crystalline and fern-shaped deposit is formed. Досліджено цементацію цинку магнієм з водних розчинів ZnCl2 + NH4Cl. Встановлено, що за повноти вилучення металу ³ 99% питомі витрати маґнію становлять 0.8–2.0 г на 1 г кондиційного цинку. Показано, що за низьких концентрацій іонів Zn2+ (0.025–0.1 M ZnCl2) формується дисперсний осад із субмікронними розмірами частинок відновленого металу, за високих (0.25–0.5 M) –грубокристалічний дендритоподібний.Досліджено цементацію цинку магнієм з водних розчинів ZnCl2 + NH4Cl. Встановлено, що за повноти вилучення металу ³ 99 % питомі витрати маґнію становлять 0.8–2.0 г на 1 г кондиційного цинку. Показано, що за низьких концентрацій іонів Zn2+ (0.025–0.1 M ZnCl 2) формується дисперсний осад із субмікронними розмірами частинок відновленого металу, за високих (0.25–0.5 M) –грубокристалічний дендритоподібний.
  • Thumbnail Image
    Item
    Morphology of a dispersed tellurium electrochemical deposition in aprotic solvents
    (Publishing House of Lviv Polytechnic National University, 2007) Kuntyi, Orest
    Досліджено електроліз розчинів TeCl4 в диметилсульфоксиді, диметилформаміді та ацетонітрилі з використанням розчинних телурових анодів. У 0.05 M TeCl4 за 313 K на графітовій підкладці при потенціалах менше ніж 1.0 V спостерігається формування компактного телурового осаду, при потенціалах більше ніж1.25-1.5V-дисперсноготелуру. За даними досліджень за допомогою растрової мікроскопії встановлено, що дисперсний телур формується у конгломерати, що містять пелюстко- і пір’яподібні утворення товщиною 0.3–0.1 µm.The electrolysis of TeCl4 solutions in dimethylsulfoxide, dimethylformamide and acetonitrile using soluble tellurium anodes has been investigated. At 313K in 0.05MTeCl4 over graphic undercoat the formation of compact tellurium deposit took place at cathode potentials less than 1.0 V and formation of dispersed deposit – at values more than 1.25–1.5 V. Using the results of SEM researches it has been established that dispersed tellurium formed conglomerates consisting of intergrown lobes and knurls with the thickness 0.3–0.1 μm.