Spark-Plasma-Sintering for Preparation of Oxidic and Ceramic Materials

Simple item page
dc.citation.conferenceМіжнародна наукова конференція "Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування"
dc.citation.epage21
dc.citation.journalTitleОксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування : збірник тез міжнародної наукової конференції
dc.citation.spage21
dc.contributor.affiliationMax. Planck-Institut für Chemische Physik fester Stoffe, Dresden, Germany
dc.contributor.authorGrin, Yuri
dc.contributor.authorKaiser, Felix
dc.contributor.authorVeremchuk, Igor
dc.coverage.placenameЛьвів
dc.coverage.placenameLviv
dc.coverage.temporal29 травня–2 червня, 2017 Львів, Україна
dc.coverage.temporalMay 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine
dc.date.accessioned2018-04-02T13:41:42Z
dc.date.available2018-04-02T13:41:42Z
dc.date.created2017-05-29
dc.date.issued2017-05-29
dc.format.extent21
dc.format.pages1
dc.identifier.citationGrin Y. Spark-Plasma-Sintering for Preparation of Oxidic and Ceramic Materials / Yuri Grin, Felix Kaiser, Igor Veremchuk // Oxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, May 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine. — Lviv, 2017. — P. 21. — (1 technology of active media for electronic engineering).
dc.identifier.citationenGrin Y. Spark-Plasma-Sintering for Preparation of Oxidic and Ceramic Materials / Yuri Grin, Felix Kaiser, Igor Veremchuk // Oxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, May 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine. — Lviv, 2017. — P. 21. — (1 technology of active media for electronic engineering).
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/40159
dc.language.isoen
dc.relation.ispartofОксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування : збірник тез міжнародної наукової конференції, 2017
dc.relation.ispartofOxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, 2017
dc.relation.referencesen[1] M. Tokita, Trends in Advanced System and FGM Technology, in: NEDO Int. Symp. on FGM, 1999.
dc.relation.referencesen[2] Z. A. Munir et al., J. Mat. Sci. 41 (2006) 763.
dc.relation.referencesen[3] R. Orru et. al., Mat. Sci. Eng. R 63 (2009) 127.
dc.relation.referencesen[5] I. Veremchuk et al., Inorg. Chem. 52 (2013) 4458.
dc.relation.referencesen[6] G. Kieslich et al., Phys. Chem. Chem. Phys. 15 (2013) 15399.
dc.relation.referencesen[7] D. Portehault et al., ASC Nano 5 (2011) 9052.
dc.relation.referencesen[8] S. Conze et al., J. Solid State Chem. 229 (2015) 235.
dc.relation.referencesen[9] M. Beekman et al., JACS 131 (2009) 9642.
dc.relation.referencesen[10] B. Feng et al., Adv. Eng. Mat. 16 (2014) 1252.
dc.relation.referencesen[11] H. Zhang et al., J. Electron. Mater. 39 (2010) 1772.
dc.relation.referencesen[12] G. Kieslich et al., Phys. Status Solidi A 213 (2016) 808.
dc.relation.referencesen[13] L. Campayo et al., J. Nucl. Mat. 457 (2015) 63.
dc.relation.referencesen[14] N. Massoni et al., J. Eur. Ceram. Soc. 35 (2015) 297.
dc.rights.holder© Національний університет “Львівська політехніка”, 2017
dc.titleSpark-Plasma-Sintering for Preparation of Oxidic and Ceramic Materials
dc.typeConference Abstract

Files

Original bundle

Now showing 1 - 2 of 2
Thumbnail Image
Name:
OMEE_2017_Grin_Y-Spark_Plasma_Sintering_for_Preparation_21.pdf
Size:
44.72 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Download
Thumbnail Image
Name:
OMEE_2017_Grin_Y-Spark_Plasma_Sintering_for_Preparation_21__COVER.png
Size:
884.62 KB
Format:
Portable Network Graphics
Download

License bundle

Now showing 1 - 1 of 1
Thumbnail Image
Name:
license.txt
Size:
2.92 KB
Format:
Plain Text
Description:
Download

Collections

Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування (OMEE-2017). – 2017 р.