Дослідження нанорозмірних плівок фталоціаніну нікелю (NIPC) для елементів пам’яті
No Thumbnail Available
Date
2012
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Видавництво Львівської політехніки
Abstract
Наведено результати досліджень термовакуумно напилених тонких плівок органічного напівпровідника фталоціаніну нікелю (NiPc) за різних швидкостей осадження для елементів пам’яті. Проведено рентгеноструктурний аналіз та виявлено морфологічні особливості тонких плівок NiPc. Досліджено вольт-амперні (ВАХ) та імпедансні характеристики структури ITO/NiPc/Al. Виявлено бістабільний характер поведінки структури ITO/NiPc/Al, сформованої із високою швидкістю осадження NiPc. In this work presented the results of investigation of nickel phthalocyanine (NiPc) thin
films prepared by thermal vacuum deposition with different deposition rate for memory cells. XRay diffraction and surface morphology images of NiPc thin films were investigated. It was studied the current-voltage and impedance characteristics of structure ITO/NiPc/Al. Revealed bistable behavior of structure ITO/NiPc/Al fabricated with high deposition rate of NiPc.
Description
Keywords
фталоціанін нікелю, бістабільність, електронний елемент пам’яті, nickel phtalocyanine, bistable, electronic memory cell
Citation
Дослідження нанорозмірних плівок фталоціаніну нікелю (NIPC) для елементів пам’яті / З. Ю. Готра, Д. Ю. Волинюк, Н. В. Костів, П. М. Шпатар // Вісник Національного університету "Львівська політехніка". – 2012. – № 734 : Електроніка. – С. 85–90. – Бібліографія: 16 назв.