Електроніка. – 2000. – №401

Permanent URI for this collectionhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/37269

Вісник Національного університету "Львівська політехніка"

У Віснику опубліковані результати наукові-технічних досліджень у галузі технологічних, експериментальних, теоретичних та методологічних проблем електроніки та оптоелектроніки, фізики і техніки напівпровідників та напівпровідникового матеріалознавства, фізики твердого тіла, фізики, техніки та використання елементів, приладів та систем сучасної електронної техніки. Тематика Вісника Національного університету “Львівська політехніка” “Електроніка” охоплює такі розділи електроніки: матеріали електронної техніки; фізика, технологія та виробництво елементів, приладів та систем електронної техніки; фізика і техніка напівпровідників, металів, діелектриків та рідких кристалів; експериментальні та теоретичні дослідження електронних процесів; методика досліджень. У Віснику “Електроніка” публікуються оглядові та дослідницькі роботи, присвячені його тематиці (але не обмежені лише нею). Роботи можуть подавати як співробітники Львівської політехніки, так і будь-яких інших навчальних чи наукових закладів. Роботи авторів з України друкуються українською мовою. Для наукових працівників, інженерів і студентів старших курсів електрофізичних та технологічних спеціальностей.

Вісник Національного університету «Львівська політехніка» : [збірник наукових праць] / Міністерство освіти і науки України, Національний університет «Львівська політехніка» – Львів : Видавництво Національного університету «Львівська політехніка», 2000. – № 401 : Електроніка / відповідальний редактор Д. Заярчук. – 127 с. : іл.

Browse

Search Results

Now showing 1 - 1 of 1
  • Thumbnail Image
    Item
    Дослідження процесів конденсації тонких шарів оксидних люмінофорних матеріалів з лазерної плазми
    (Видавництво Національного університету «Львівська політехніка», 2000) Бобицький, Я. В.; Котлярчук, Б. К.; Попович, Д. І.; Савчук, В. К.
    Описано лазерну технологічну схему синтезу окисних люмінофорних тонких шарів Y2O3:Eu, ZnO:Zn, ZnGa2O4, ZnGa2O4:Mn, ZnSiO4:Ti, ZnSiO4:Mn, Zn04Gdir6Os:Eu та вивчено їх основні структурні характеристики. Аналіз режимів лазерного напилення окисних фосфорів і спектральних характеристик паро- плазмового факелу дав змогу встановити складний взаємозв’язок між газодинамічними параметрами переносу випаруваного матеріалу на підкладку і властивостями сформованих плівок. Досліджено процеси конденсації тонких плівок з лазерної плазми та встановлено, що механізм формування окисних фосфорних плівок в кисневому середовищі має комплексний характер, де визначальними факторами є іонізація і збудження осаджуваних атомів, стимульовані їх світловим опроміненням. Laser technology of synthesis of oxide phosphor thin films Y2O3:Eu, ZnO:Zn, ZnGa2O4, ZnGa2O4:Mn, ZnSiO4:Ti, ZnSiO4:Mn, Zn0>4Gd2,6O3:Eu was developed. Basic structural, electrophysical properties were investigated. Conducted analysis of used modes of laser deposition of phosphor oxides and spectral characteristics of vapor- plasma torch enables to obtain complex relationship between the character of scattering of evaporated material and formed films properties. Investigations of thin film condensation processes from laser plasma were conducted. It was ascertained that formation of oxide phosphor films in oxygen ambience has complex character with determining factors such as ionization and excitation of sputtered atoms by light illumination.