Електроніка. – 2001. – №430

Permanent URI for this collectionhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/42613

Вісник Національного університету «Львівська політехніка»

У Віснику опубліковані результати науково-технічних досліджень в галузі технологічних, експериментальних, теоретичних та методологічних проблем електроніки, фізики і техніки напівпровідників та напівпровідникового матеріалознавства, фізики твердого тіла, фізики, техніки та використання елементів, приладів та систем сучасної електронної техніки. Для наукових працівників, інженерів і студентів старших курсів електрофізичних та технологічних спеціальностей. Тематика ВІСНИКА Національного університету «Львівська політехніка» «ЕЛЕКТРОНІКА» охоплює такі розділи електроніки: матеріали електронної техніки; фізика, технологія та виробництво елементів, приладів та систем електронної техніки; фізика і техніка напівпровідників, металів, діелектриків та рідких кристалів; експериментальні та теоретичні дослідження електронних процесів; методика досліджень. У Віснику «ЕЛЕКТРОНІКА» публікуються оглядові та дослідницькі роботи, присвячені цій тематиці (але не обмежені лише нею). Роботи можуть бути представлені як співробітниками Львівської політехніки, так і будь-яких інших навчальних чи наукових закладів. Роботи друкуються українською мовою.

Вісник Національного університету «Львівська політехніка» : [збірник наукових праць] / Міністерство освіти і науки України, Національний університет «Львівська політехніка». – Львів : Видавництво Національного університету «Львівська політехніка», 2001. – № 430 : Електроніка / відповідальний редактор Д. Заярчук. – 128 с. : іл.

Browse

Search Results

Now showing 1 - 1 of 1
  • Thumbnail Image
    Item
    Вплив орієнтації та якості обробки підкладок на резонансні властивості епітаксійних плівок залізо-ітрієвого гранату
    (Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2001) Yushchuk, SI.; Yuryev, S. O.; Nikolaychuk, V. J.; Osypyshyn, L. I.; Національний університет “Львівська політехніка”
    Досліджено вплив орієнтації та дефектності підкладок з галій-гадолінієвого гранату (ГГГ) на ширину лінії феромагнітного резонансу (ФМР) епітаксійних плівок залізо-ітрієвого гранату (ЗІГ). Показано, що найбільш якісними з най¬меншою шириною лінії ФМР є плівки ЗІГ, вирощені на підкладках з ГГГ орієнтації (111). Найбільш негативний вплив на якість плівок ЗІГ справляють підкладки, що мають скупчення дислокацій і включення зерен іридію. Запро¬поновано спосіб обробки підкладок, який дозволяє отримувати плівки товщиною 4,7...5,0 мкм з шириною лінії ФМР 0,3...0,5 Е. Використання в ролі підкладок епі¬таксійних структур з ферогранатовою плівкою іншого складу дозволяє вирощу¬вати шари ЗІГ товщиною до 70 мкм. The influence of orientation and the defect substrates from gallium-gadolinium garnet (GGG) on ferromagnetic resonance line width (FMR) of epitaxial iron-yttrium garnet films (YIG) was investigated. It is shown that the best quality with minimum FMR line width are YIG films growing on GGG substrates with (111) orientation. The most negative influence on the quality of YIG films make the substrates with accu¬mulation of dislocations and including the iridium parcels. The method of substrates processing which allow to get the films with 4,7...5,0 p,m thickness and 0,3...0,5 Oe FMR line width is proposed. The use of the epitaxial structure with the ferrogarnet film in different compositions as substrates allows to grow YIG layers with 70 ^m thickness.