Вісники та науково-технічні збірники, журнали
Permanent URI for this communityhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/12
Browse
2 results
Search Results
Item Конструктивні похибки параметричних ємнісних давачів(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Бзовий, М. Г.; Брайчовський, В. В.; Політанський, Л. Ф.; Шпатар, П. М.; Національний університет "Львівська політехніка"Проведено аналіз похибок ємнісних давачів переміщень, зумовлених порушенням паралельності обкладок конденсатора. Отримані аналітичні залежності зміни ємності давача від віддалі між непаралельними прямокутними та круглими обкладками. Analysis of inaccuracies for movements capacity sensors caused by a displacement transducers of capacitor plates is made. An analytical relation for change of the sensor’s capacitance to spacing interval between nonparallel rectangular and round plates is gotten.Item Дослідження нанорозмірних плівок фталоціаніну нікелю (NIPC) для елементів пам’яті(Видавництво Львівської політехніки, 2012) Готра, З. Ю.; Волинюк, Д. Ю.; Костів, Н. В.; Шпатар, П. М.Наведено результати досліджень термовакуумно напилених тонких плівок органічного напівпровідника фталоціаніну нікелю (NiPc) за різних швидкостей осадження для елементів пам’яті. Проведено рентгеноструктурний аналіз та виявлено морфологічні особливості тонких плівок NiPc. Досліджено вольт-амперні (ВАХ) та імпедансні характеристики структури ITO/NiPc/Al. Виявлено бістабільний характер поведінки структури ITO/NiPc/Al, сформованої із високою швидкістю осадження NiPc. In this work presented the results of investigation of nickel phthalocyanine (NiPc) thin films prepared by thermal vacuum deposition with different deposition rate for memory cells. XRay diffraction and surface morphology images of NiPc thin films were investigated. It was studied the current-voltage and impedance characteristics of structure ITO/NiPc/Al. Revealed bistable behavior of structure ITO/NiPc/Al fabricated with high deposition rate of NiPc.