Низькотемпературний транспорт носіїв заряду в складнолегованих ниткоподібних кристалах Sі-Gе
Date
2001
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Видавництво Національного університету "Львівська політехніка"
Abstract
Вивченно електричні параметри НК Si-Ge в температурній області 4,2-300 К. Досліджено НК Si-Ge з вмістом Ge до 3 ат.%, вирощених в легуючих системах з домішками B+Au, Zn+Au, Hf+Au, Ni+Mn+Pt. Оцінено енергії активації 0,018 та 0,32 еВ у кристалах, легованих B і Zn, відповідно. У НК проявляються мікро- та макронеоднорідності. Встановлено, що НК, вирощені з домішками Hf та Au, є фоточутливі. The present paper deals with a study of Si-Ge whisker in the temperature range 4.2-300K. Si-Ge whiskers with compositions (up to 3at.% Ge) grown in doped system of B+Au, Zn+Au, Hf+Au, Ni+Mn+Pt were under investigation. Activation energies 0,018 and 0.32eV of crystals doped with B, Zn impurities, respectively, were calculated. Micro- and macro-inhomogeneties are found in the whiskers. The whiskers doped with Hf and Au was shown to be photosensitive.
Description
Keywords
Citation
Низькотемпературний транспорт носіїв заряду в складнолегованих ниткоподібних кристалах Sі-Gе / А. О. Дружинін, О. М. Лавитська, С. С. Варшава, І. П. Островський, Н. Лях // Вісник Національного університету "Львівська політехніка". – 2001. – № 423 : Електроніка. – С. 76–80. – Бібліографія: 11 назв.