Особливості і моделі травлення в субмікронній технології великих інтегральних схем

Abstract

На основі експериментальних досліджень рідинного та плазмохімічного травлення розроблені моделі ізотропного та анізотропного травлення функціональних шарів при формуванні субмікронних структур великих інтегральних схем (ВІС). In virtue of an experimental research of the liquid and plasma-chemical etching of functional layers the models of isotropic and anisotropic etching have been developed in the engineering process of submicron structures of the large-scale integrated circuits.