Особливості і моделі травлення в субмікронній технології великих інтегральних схем

dc.contributor.authorНовосядлий, С.
dc.contributor.authorІванців, Н.
dc.contributor.authorІванців, В.
dc.date.accessioned2017-09-19T08:42:46Z
dc.date.available2017-09-19T08:42:46Z
dc.date.issued2002
dc.description.abstractНа основі експериментальних досліджень рідинного та плазмохімічного травлення розроблені моделі ізотропного та анізотропного травлення функціональних шарів при формуванні субмікронних структур великих інтегральних схем (ВІС). In virtue of an experimental research of the liquid and plasma-chemical etching of functional layers the models of isotropic and anisotropic etching have been developed in the engineering process of submicron structures of the large-scale integrated circuits.uk_UA
dc.identifier.citationНовосядлий С. Особливості і моделі травлення в субмікронній технології великих інтегральних схем / С. Новосядлий, Н. Іванців, В. Іванців // Вісник Національного університету «Львівська політехніка». – 2002. – № 444 : Комп’ютерні системи проектування. Теорія і практика. – С. 48–56. – Бібліографія: 6 назв.uk_UA
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/39161
dc.language.isouauk_UA
dc.publisherВидавництво Національного університету «Львівська політехніка»uk_UA
dc.titleОсобливості і моделі травлення в субмікронній технології великих інтегральних схемuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Files

Original bundle
Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
7_48-56.pdf
Size:
170.35 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
License bundle
Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
1.71 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description: