Дослідження процесів конденсації тонких шарів оксидних люмінофорних матеріалів з лазерної плазми

Abstract

Описано лазерну технологічну схему синтезу окисних люмінофорних тонких шарів Y2O3:Eu, ZnO:Zn, ZnGa2O4, ZnGa2O4:Mn, ZnSiO4:Ti, ZnSiO4:Mn, Zn04Gdir6Os:Eu та вивчено їх основні структурні характеристики. Аналіз режимів лазерного напилення окисних фосфорів і спектральних характеристик паро- плазмового факелу дав змогу встановити складний взаємозв’язок між газодинамічними параметрами переносу випаруваного матеріалу на підкладку і властивостями сформованих плівок. Досліджено процеси конденсації тонких плівок з лазерної плазми та встановлено, що механізм формування окисних фосфорних плівок в кисневому середовищі має комплексний характер, де визначальними факторами є іонізація і збудження осаджуваних атомів, стимульовані їх світловим опроміненням. Laser technology of synthesis of oxide phosphor thin films Y2O3:Eu, ZnO:Zn, ZnGa2O4, ZnGa2O4:Mn, ZnSiO4:Ti, ZnSiO4:Mn, Zn0>4Gd2,6O3:Eu was developed. Basic structural, electrophysical properties were investigated. Conducted analysis of used modes of laser deposition of phosphor oxides and spectral characteristics of vapor- plasma torch enables to obtain complex relationship between the character of scattering of evaporated material and formed films properties. Investigations of thin film condensation processes from laser plasma were conducted. It was ascertained that formation of oxide phosphor films in oxygen ambience has complex character with determining factors such as ionization and excitation of sputtered atoms by light illumination.