The Effect of Deposition Temperature, Flux of N2 and Sputtering Power on Si/SiO/NbN Superconducting Thin Films

Simple item page
dc.citation.conferenceМіжнародна наукова конференція "Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування"
dc.citation.epage40
dc.citation.journalTitleОксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування : збірник тез міжнародної наукової конференції
dc.citation.spage40
dc.contributor.affiliationDepartment of Electrical and Electronics, Giresun University, Giresun, Turkey
dc.contributor.affiliationFrancis Bitter Magnet Laboratory, Massachusetts Institute of Technology (MIT)
dc.contributor.affiliationCambridge Massachusetts, United States
dc.contributor.affiliationJSPS, Japan
dc.contributor.affiliationTokyo Institute of Technology, Japan
dc.contributor.affiliationFederal Univ. of Viçosa, Brazil
dc.contributor.authorAltinkok, A.
dc.contributor.authorTakamura, Y.
dc.contributor.authorGoncalves, Rafael S.
dc.contributor.authorLoreto, Renan P.
dc.contributor.authorCascales, Juan P.
dc.contributor.authorZenk, H.
dc.contributor.authorMoodera, Jagadeesh S.
dc.coverage.placenameЛьвів
dc.coverage.placenameLviv
dc.coverage.temporal29 травня–2 червня, 2017 Львів, Україна
dc.coverage.temporalMay 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine
dc.date.accessioned2018-04-02T13:41:19Z
dc.date.available2018-04-02T13:41:19Z
dc.date.created2017-05-29
dc.date.issued2017-05-29
dc.format.extent40
dc.format.pages1
dc.identifier.citationThe Effect of Deposition Temperature, Flux of N2 and Sputtering Power on Si/SiO/NbN Superconducting Thin Films / A. Altinkok, Y. Takamura, Rafael S. Goncalves, Renan P. Loreto, Juan P. Cascales, H. Zenk, Jagadeesh S. Moodera // Oxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, May 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine. — Lviv, 2017. — P. 40. — (1 technology of active media for electronic engineering).
dc.identifier.citationenThe Effect of Deposition Temperature, Flux of N2 and Sputtering Power on Si/SiO/NbN Superconducting Thin Films / A. Altinkok, Y. Takamura, Rafael S. Goncalves, Renan P. Loreto, Juan P. Cascales, H. Zenk, Jagadeesh S. Moodera // Oxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, May 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine. — Lviv, 2017. — P. 40. — (1 technology of active media for electronic engineering).
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/40136
dc.language.isoen
dc.relation.ispartofОксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування : збірник тез міжнародної наукової конференції, 2017
dc.relation.ispartofOxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, 2017
dc.rights.holder© Національний університет “Львівська політехніка”, 2017
dc.titleThe Effect of Deposition Temperature, Flux of N2 and Sputtering Power on Si/SiO/NbN Superconducting Thin Films
dc.typeConference Abstract

Files

Original bundle

Now showing 1 - 2 of 2
Thumbnail Image
Name:
OMEE_2017_Altinkok_A-The_Effect_of_Deposition_Temperature_40.pdf
Size:
46.08 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Download
Thumbnail Image
Name:
OMEE_2017_Altinkok_A-The_Effect_of_Deposition_Temperature_40__COVER.png
Size:
781.89 KB
Format:
Portable Network Graphics
Download

License bundle

Now showing 1 - 1 of 1
Thumbnail Image
Name:
license.txt
Size:
2.99 KB
Format:
Plain Text
Description:
Download

Collections

Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування (OMEE-2017). – 2017 р.