Special feature of forming solid planar diffusion a source for submicron structure
| dc.contributor.author | Berezhansky, Volodymyr | |
| dc.date.accessioned | 2011-02-14T14:06:19Z | |
| dc.date.available | 2011-02-14T14:06:19Z | |
| dc.date.issued | 2010 | |
| dc.description.abstract | Solid planar diffusion a source for forming submicron structure VLSI are given in this paper. | uk_UA |
| dc.identifier.citation | Berezhansky V. Special feature of forming solid planar diffusion a source for submicron structure / Volodymyr Berezhansky // Сучасні проблеми радіоелектроніки, телекомунікацій, комп’ютерної інженерії : матеріали ХХ Міжнародної конференції TCSET2010, присвяченої 165-й річниці заснування Національного університету «Львівська політехніка», 23–27 лютого 2010 року, Львів, Славське, Україна / Національний університет «Львівська політехніка». – Львів : Видавництво Львівської політехніки, 2010. – С. 364. – Bibliography: 2 titles. | uk_UA |
| dc.identifier.uri | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/7381 | |
| dc.language.iso | en | uk_UA |
| dc.publisher | Видавництво Львівської політехніки | uk_UA |
| dc.subject | silane | uk_UA |
| dc.subject | borazine | uk_UA |
| dc.subject | ionic-plasma processing technique | uk_UA |
| dc.title | Special feature of forming solid planar diffusion a source for submicron structure | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |