Вплив розподілу струму розряду по катоду комірки Пеннінга на рівномірність напилених плівок

Simple item page
dc.citation.epage47
dc.citation.issue532 : Електроніка
dc.citation.journalTitleВісник Національного університету “Львівська політехніка”
dc.citation.spage42
dc.contributor.affiliationНаціональний університет “Львівська політехніка”
dc.contributor.authorШандра, З. А.
dc.contributor.authorShandra, Z. A.
dc.coverage.placenameЛьвів
dc.coverage.placenameLviv
dc.date.accessioned2020-03-20T07:36:38Z
dc.date.available2020-03-20T07:36:38Z
dc.date.created2005-03-01
dc.date.issued2005-03-01
dc.description.abstractПодано результати дослідження розподілу струму розряду по поверхні катода в комірці Пеннінга з прямокутним анодом. Виявлено, що при тиску газу близько 0,01 Па максимальна густина струму спостерігається в центрі катода. У разі збільшення тиску газу зростає густина струму на периферії катода. Розподіл струму по висоті катода можна апроксимувати функцією Jp(h) = n +(1-n) sin(πh/a), де а – розмір катода. Виконано моделювання впливу розподілу струму на рівномірність напилених плівок для різних тисків газу. Аналіз показує, що нерівномірність струму по катоду погіршує рівномірність плівок по товщині на краях підкладки.
dc.description.abstractThe results of experimental investigation of the cathode current distribution in Penning’s cell with rectangular anode are presented. The maximum current density in cathode center observed under the gas pressure about 0.01 Pa. The current density at the cathode periphery increased with increasing the gas pressure. The current distribution on cathode height can be approximated function (a – the cathode size). The simulation of the current distribution influence on the sputtered films uniformity for different gas pressure is carried out. The analysis show that the current non-uniformity over the cathode decreases the film thickness uniformity at the substrate edge.
dc.format.extent42-47
dc.format.pages6
dc.identifier.citationШандра З. А. Вплив розподілу струму розряду по катоду комірки Пеннінга на рівномірність напилених плівок / З. А. Шандра // Вісник Національного університету “Львівська політехніка”. — Львів : Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”, 2005. — № 532 : Електроніка. — С. 42–47.
dc.identifier.citationenShandra Z. A. The influence of the cathode current distribution in Penning’s cell on the sputtered films / Z. A. Shandra // Visnyk Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika". — Lviv : Vydavnytstvo Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika", 2005. — No 532 : Elektronika. — P. 42–47.
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/47522
dc.language.isouk
dc.publisherВидавництво Національного університету “Львівська політехніка”
dc.relation.ispartofВісник Національного університету “Львівська політехніка”, 532 : Електроніка, 2005
dc.relation.references1. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. – М., 1989.
dc.relation.references2. Крейндель Ю.Е. Плазменные источники электронов. – М., 1977.
dc.relation.references3. Битнер Л.Р., Ведерников В.А., Данилина Т.И., Маняхина Г.В., Шандра З.А. // Изв. ВУЗов. Физика, № 12, 1976. – С. 11–15.
dc.relation.references4. Агафонникова Е.В., Шандра З.А.// Сверхпроводимость: физика, химия, техника, №1, 1992. – С. 123–127.
dc.relation.references5. Шандра З.А.// Вiснику ДУ “Львiвська полiтехнiка”, 2004, № 512. – С.8–-86.
dc.relation.references6. Баберцян Р.П., Бадалян Э.С., Егназарян Г.А., Тер-Геворкян Э.И., Оганнисян В.Н.// ЖТФ, №4, 2000. – С.24–28.
dc.relation.referencesen1. Danilin B.S. Primenenie nizkotemperaturnoi plazmy dlia naneseniia tonkikh plenok, M., 1989.
dc.relation.referencesen2. Kreindel Iu.E. Plazmennye istochniki elektronov, M., 1977.
dc.relation.referencesen3. Bitner L.R., Vedernikov V.A., Danilina T.I., Maniakhina H.V., Shandra Z.A., Izv. VUZov. Fizika, No 12, 1976, P. 11–15.
dc.relation.referencesen4. Ahafonnikova E.V., Shandra Z.A.// Sverkhprovodimost: fizika, khimiia, tekhnika, No 1, 1992, P. 123–127.
dc.relation.referencesen5. Shandra Z.A.// Visniku DU "Lvivska politekhnika", 2004, No 512, P.8–-86.
dc.relation.referencesen6. Babertsian R.P., Badalian E.S., Ehnazarian H.A., Ter-Hevorkian E.I., Ohannisian V.N.// ZhTF, No 4, 2000, P.24–28.
dc.rights.holder© Національний університет “Львівська політехніка”, 2005
dc.rights.holder© Шандра З. А., 2005
dc.subject.udc621.793.1
dc.titleВплив розподілу струму розряду по катоду комірки Пеннінга на рівномірність напилених плівок
dc.title.alternativeThe influence of the cathode current distribution in Penning’s cell on the sputtered films
dc.typeArticle

Files

License bundle
Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
2.96 KB
Format:
Plain Text
Description:
Download

Collections

Електроніка. – 2005. – №532