Сучасний стан і напрямки розвитку нанометрової літографії (огляд)

Abstract

Розглянуто сучасний стан і напрямки досліджень нанометрової літографії. Наведено характеристики оптичної і альтернативних безмаскових літографій для масового виробництва ІС. Виділено напрямки досліджень і задачі, які необхідно розв’язати для створення α-версії вітчизняної матрично-емітерної літографії. Запропоновано апаратну декомпресію даних на основі модифікованого методу BWT із збільшеними буферами стискання. Запропоновано інтегровані КМОН КНІ структури на основі базових матричних кристалів для реалізації ІС, логіки, пам’яті і керування випромінювачами. The modern state and research directions of nanometer lithography are considered. Descriptions of optical and alternative maskless lithography for industrial VLSI production are presented. Research directions and tasks, which are necessary to solve for α-version of matrix emitters lithography realization are selected. The BWT hardware data decompression with extended sorting buffer is offered. The integrated CMOS SOI structures on the basis of base matrix crystals for realization of logic, memory and control VLSI for matrix emitters are offered.