Electrical Properties of the MIS Structures Based on MBE HgCdTe with SiO2/Si3N4 and Al2O3 Insulating Layers
dc.citation.conference | Міжнародна наукова конференція "Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування" | |
dc.citation.epage | 37 | |
dc.citation.journalTitle | Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування : збірник тез міжнародної наукової конференції | |
dc.citation.spage | 37 | |
dc.contributor.affiliation | Scientific Research Company “Carat”, Lviv, Ukraine | |
dc.contributor.affiliation | National Research Tomsk State University, Tomsk, Russia | |
dc.contributor.affiliation | Rzhanov Institute of Semiconductor Physics SB RAS, Novosibirsk, Russia | |
dc.contributor.author | Izhnin, I. | |
dc.contributor.author | Voitsekhovskii, A. | |
dc.contributor.author | Nesmelov, S. | |
dc.contributor.author | Dzyadukh, S. | |
dc.contributor.author | Sidorov, G. | |
dc.contributor.author | Varavin, V. | |
dc.contributor.author | Vasil`ev, V. | |
dc.contributor.author | Dvoretsky, S. | |
dc.contributor.author | Mikhailov, N. | |
dc.contributor.author | Yakushev, M. | |
dc.coverage.placename | Львів | |
dc.coverage.placename | Lviv | |
dc.coverage.temporal | 29 травня–2 червня, 2017 Львів, Україна | |
dc.coverage.temporal | May 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine | |
dc.date.accessioned | 2018-04-02T13:40:47Z | |
dc.date.available | 2018-04-02T13:40:47Z | |
dc.date.created | 2017-05-29 | |
dc.date.issued | 2017-05-29 | |
dc.format.extent | 37 | |
dc.format.pages | 1 | |
dc.identifier.citation | Electrical Properties of the MIS Structures Based on MBE HgCdTe with SiO2/Si3N4 and Al2O3 Insulating Layers / I. Izhnin, A. Voitsekhovskii, S. Nesmelov, S. Dzyadukh, G. Sidorov, V. Varavin, V. Vasil`ev, S. Dvoretsky, N. Mikhailov, M. Yakushev // Oxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, May 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine. — Lviv, 2017. — P. 37. — (1 technology of active media for electronic engineering). | |
dc.identifier.citationen | Electrical Properties of the MIS Structures Based on MBE HgCdTe with SiO2/Si3N4 and Al2O3 Insulating Layers / I. Izhnin, A. Voitsekhovskii, S. Nesmelov, S. Dzyadukh, G. Sidorov, V. Varavin, V. Vasil`ev, S. Dvoretsky, N. Mikhailov, M. Yakushev // Oxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, May 29–June 2, 2017 Lviv, Ukraine. — Lviv, 2017. — P. 37. — (1 technology of active media for electronic engineering). | |
dc.identifier.uri | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/40102 | |
dc.language.iso | en | |
dc.relation.ispartof | Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування : збірник тез міжнародної наукової конференції, 2017 | |
dc.relation.ispartof | Oxide Materials for Electronic Engineering – fabrication, properties and applications : book of abstracts international conference, 2017 | |
dc.relation.referencesen | [1] A. Rogalski, Infrared detectors: 2nd. ed., CRC Press, Taylor & Francis Group, New York, 2011, p. 876. | |
dc.relation.referencesen | [2] S. Dvoretsky, N. Mikhailov, Y. Sidorov et al., J. Electron. Mater. 39 (2010) 918. | |
dc.relation.referencesen | [3] R. Singh, A.K. Gupta, K.C. Chhabra, Defence Science J. 41 (2013) 205. | |
dc.relation.referencesen | [4] Y. Nemirovsky, I. Bloom, J. Vac. Sci. Technol. A 6 (1988) 2710. | |
dc.relation.referencesen | [5] A.V. Voitsekhovskii, S.N. Nesmelov, and S.M. Dzyadukh, Thin Sold Films 522 (2012) 261. | |
dc.relation.referencesen | [6] R. Fu, J. Pattison, Optical Engineering 51 (2012) 104003. | |
dc.relation.referencesen | [7] P. Zhang, Z. Ye, C. Sun et al., J. Electron. Mater. 45 (2016) 4716. | |
dc.rights.holder | © Національний університет “Львівська політехніка”, 2017 | |
dc.title | Electrical Properties of the MIS Structures Based on MBE HgCdTe with SiO2/Si3N4 and Al2O3 Insulating Layers | |
dc.type | Conference Abstract |
Files
License bundle
1 - 1 of 1