Inelastic-elastic properties of SiO2, SiO2 + TiO2 + ZrO2

dc.contributor.authorOnanko, A. P.
dc.contributor.authorKulish, M. P.
dc.contributor.authorLyashenko, O. V.
dc.contributor.authorProdayvoda, G. T.
dc.contributor.authorVyzhva, S. A.
dc.contributor.authorOnanko, Y. A.
dc.date.accessioned2012-10-11T08:00:08Z
dc.date.available2012-10-11T08:00:08Z
dc.date.issued2012
dc.description.abstractA non-destructive method for the technological control of the structure defects in SiO2 + Si wafers by measuring the internal friction background difference on the nearby harmonics f1 and f2 after mechanical and heat treatments.uk_UA
dc.identifier.citationInelastic-elastic properties of SiO2, SiO2 + TiO2 + ZrO2 / A. P. Onanko, M. P. Kulish, O. V. Lyashenko, G. T. Prodayvoda, S. A. Vyzhva, Y. A. Onanko // Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування (ОМЕЕ – 2012) : збірник матеріалів міжнародної наукової конференції, 3-7 вересня 2012 року, Львів, Україна / Національний університет “Львівська політехніка”. – Львів : Видавництво Львівської політехніки, 2012. – С. 81–82. – Bibliography: 6 titles.uk_UA
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/15174
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherВидавництво Львівської політехнікиuk_UA
dc.subjectelastic moduleuk_UA
dc.subjectinternal frictionuk_UA
dc.subjectstructure defectsuk_UA
dc.subjectdislocationsuk_UA
dc.subjectmicrostructureuk_UA
dc.titleInelastic-elastic properties of SiO2, SiO2 + TiO2 + ZrO2uk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Files

Original bundle

Now showing 1 - 1 of 1
Loading...
Thumbnail Image
Name:
32_81_82_OMEE_2012.pdf
Size:
124.74 KB
Format:
Adobe Portable Document Format

License bundle

Now showing 1 - 1 of 1
Loading...
Thumbnail Image
Name:
license.txt
Size:
2.06 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description: