Лазерно-стимульоване осадження тонких плівок для виготовлення інтегральних мікросхем
| dc.contributor.author | Дорош, Н. В. | |
| dc.contributor.author | Кучмій, Г. Л. | |
| dc.contributor.author | Смеркло, Л . М. | |
| dc.contributor.author | Горбулик, В. І. | |
| dc.date.accessioned | 2016-01-28T12:00:22Z | |
| dc.date.available | 2016-01-28T12:00:22Z | |
| dc.date.issued | 2004 | |
| dc.description.abstract | Проаналізовано методи лазерно-стимульованого осадження тонких плівок та наведено оптимальні режими лазерного осадження міді та нікелю. In a paper the methods of laser-induced precipitation of thick film were carried out. The optimal regimes of laser precipitation of copper and nickel were presented. | uk_UA |
| dc.identifier.citation | Лазерно-стимульоване осадження тонких плівок для виготовлення інтегральних мікросхем / Н. В. Дорош, Г. Л. Кучмій, Л. М. Смеркло , В. І. Горбулик // Вісник Національного університету «Львівська політехніка». – 2004. – № 512 : Елементи теорії та прилади твердотілої електроніки. – С. 98–101. – Бібліографія: 2 назви. | uk_UA |
| dc.identifier.uri | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/31151 | |
| dc.language.iso | ua | uk_UA |
| dc.publisher | Видавництво Національного університету «Львівська політехніка» | uk_UA |
| dc.title | Лазерно-стимульоване осадження тонких плівок для виготовлення інтегральних мікросхем | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |
Files
Original bundle
1 - 1 of 1