Електроніка. – 2008. – №619

Permanent URI for this collectionhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/2524

Вісник Національного університету "Львівська політехніка"

У Віснику опубліковані результати наукові-технічних досліджень у галузі технологічних, експериментальних, теоретичних та методологічних проблем електроніки та оптоелектроніки, фізики і техніки напівпровідників та напівпровідникового матеріалознавства, фізики твердого тіла, фізики, техніки та використання елементів, приладів та систем сучасної електронної техніки. Тематика Вісника Національного університету “Львівська політехніка” “Електроніка” охоплює такі розділи електроніки: матеріали електронної техніки; фізика, технологія та виробництво елементів, приладів та систем електронної техніки; фізика і техніка напівпровідників, металів, діелектриків та рідких кристалів; експериментальні та теоретичні дослідження електронних процесів; методика досліджень. У Віснику “Електроніка” публікуються оглядові та дослідницькі роботи, присвячені його тематиці (але не обмежені лише нею). Роботи можуть подавати як співробітники Львівської політехніки, так і будь-яких інших навчальних чи наукових закладів. Роботи авторів з України друкуються українською мовою. Для наукових працівників, інженерів і студентів старших курсів електрофізичних та технологічних спеціальностей.

Вісник Національного університету «Львівська політехніка» : [збірник наукових праць] / Міністерство освіти і науки України, Національний університет «Львівська політехніка» – Львів : Видавництво Національного університету «Львівська політехніка», 2008. – № 619 : Електроніка / відповідальний редактор Д. Заярчук. – 192 с. : іл.

Browse

Search Results

Now showing 1 - 2 of 2
  • Thumbnail Image
    Item
    Придушення побічних максимумів коефіцієнта пропускання вузькосмугових інтерференційних фільтрів
    (Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2008) Яремчук, І. Я.; Петровська, Г. А.; Фітьо, В. М.; Бобицький, Я. В.
    Запропоновано спосіб придушення побічних максимумів коефіцієнта пропускання вузькосмугових фільтрів без використання відсічних фільтрів. Спосіб полягає у тому, що на базову багатошарову структуру напилюють додатковий фільтр, основна смуга пропускання якого збігається зі смугою пропускання базового фільтра, а бічні смуги пропускання є зміщеними. Використана структура базового вузькосмугового фільтра, в якій підкладка одночасно виконує роль роздільного шару. Під час використання запропонованого методу кінцева структура інтерференційного фільтра має вигляд ВН 500В НВ Н (ВН)3 4В (НВ)3. Оптимізація структури дала змогу не лише придушити бічні смуги пропускання, але й отримати спектр пропускання без істотних втрат поглинання для робочої довжини хвилі. The method of sidebands suppression is proposed in a narrowband filter without the use of longwave and shortwave filters. A method consists in that the additional filter of simple construction is deposited on a base narrowband filter. A basic transmission band this filter is on a working wavelength base filter, and sidebands are displaced. The base interference narrowband filter is structure in which substrate is dividing layer. At the use of the offered method the final structure of interference filter will has the form HL 500H LH L (HL)3 4H (LH)3. Optimization of structure allowed not only suppressed of transmissions sidebands but also gets the transmissions spectrum without significant losses on absorption on working wavelength.
  • Thumbnail Image
    Item
    Математичне моделювання для фототеплової діагностики з урахуванням температурних залежностей теплофізичних коефіцієнтів матеріалів
    (Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2008) Демкович, І. В.; Петровська, Г. А.; Бобицький, Я. В.
    Розроблено математичну модель розрахунку теплових полів та полів деформацій для фототеплової діагностики оптичних та теплофізичних характеристик матеріалів з урахуванням температурних залежностей коефіцієнта теплопровідності та теплоємності. Досліджено вплив температурних залежностей на результати моделювання теплових полів, що виникають у зразках під дією потужного лазерного випромінювання. The mathematical model of the calculation of the thermal and deformation fields for photothermal diagnostics of optical and thermal characteristics of material at consideration temperature dependences of the heat conductivity and heat capacity was developed. The influence of the temperature dependences on results of modeling thermal fields, that appears in examples under intense laser emission was researched.