Електроніка. – 2010. – №681

Permanent URI for this collectionhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/23980

Вісник Національного університету "Львівська політехніка"

У Віснику опубліковані результати наукові-технічних досліджень у галузі технологічних, експериментальних, теоретичних та методологічних проблем електроніки та оптоелектроніки, фізики і техніки напівпровідників та напівпровідникового матеріалознавства, фізики твердого тіла, фізики, техніки та використання елементів, приладів та систем сучасної електронної техніки. Тематика Вісника Національного університету “Львівська політехніка” “Електроніка” охоплює такі розділи електроніки: матеріали електронної техніки; фізика, технологія та виробництво елементів, приладів та систем електронної техніки; фізика і техніка напівпровідників, металів, діелектриків та рідких кристалів; експериментальні та теоретичні дослідження електронних процесів; методика досліджень. У Віснику “Електроніка” публікуються оглядові та дослідницькі роботи, присвячені його тематиці (але не обмежені лише нею). Роботи можуть подавати як співробітники Львівської політехніки, так і будь-яких інших навчальних чи наукових закладів. Роботи авторів з України друкуються українською мовою. Для наукових працівників, інженерів і студентів старших курсів електрофізичних та технологічних спеціальностей.

Вісник Національного університету «Львівська політехніка» : [збірник наукових праць] / Міністерство освіти і науки України, Національний університет «Львівська політехніка» – Львів : Видавництво Львівської політехніки, 2010. – № 681 : Електроніка / відповідальний редактор Д. Заярчук. – 212 с. : іл.

Browse

Search Results

Now showing 1 - 2 of 2
  • Thumbnail Image
    Item
    Кутова стабільність максимумів вказівних поверхонь фізичних ефектів, індукованих зовнішніми полями
    (Видавництво Львівської політехніки, 2010) Кушнір, О. С.; Юркевич, О. В.; Андрущак, А. С.
    Досліджено кутову ширину максимумів п’єзоелектричного (ПЕЕ) і електрооптичного (ЕОЕ) ефектів у разі зміни зовнішніх умов (орієнтації лазерного пучка, довжини хвилі світла та температури кристала). Зокрема, проаналізовано кутову стабільність ПЕЕ та індукованої оптичної різниці ходу внаслідок ЕОЕ у кристалах ніобату літію з оксидом магнію і лангаситу. Виявлено, що перевагою геометрій експерименту, пов’язаних із екстремальними значеннями для косих зрізів кристалів, є некритичність стосовно змін відносної кутової орієнтації зразка та напрямків зовнішнього поля, поширення та поляризації світла. In this work we have studied angular width of the maxima of piezoelectric and electrooptic effects when the external conditions (laser beam orientation, light wavelength and the crystal temperature) are changed. In particular, we have analyzed the angular stability of piezoelectric coefficients and the induced optical path difference due to electrooptic effect in langasite and lithium niobate crystals doped with magnesium oxide. The advantage of experimental geometries related to extremal values for the non-direct crystal cuts is noncriticality concerned with changing relative angular orientation of the sample and the directions of external field, light propagation and its polarization.
  • Thumbnail Image
    Item
    Статична фотопружність тетрагональних кристалів за різницею ходу
    (Видавництво Львівської політехніки, 2010) Кость, Я. П.; Андрущак, А. С.; Мицик, Б. Г.
    Для кристалів, що належать до класів симетрії 4, 4 , 4/m, встановлено співвідношення, які описують п’єзооптичний ефект за різницею ходу. Проведено аналіз цих співвідношень і доведено, що на основі п’єзооптичних коефіцієнтів різниці ходу і кількох інтерферометричних вимірювань можна знайти усі абсолютні п’єзооптичні коефіцієнти з меншими похибками, ніж тільки інтерферометричними методами. Relations that describe piezo-optic effect of retardation for crystals with symmetry classes 4, 4 , 4/m were determined. Analysis of these relations was done and we proved that using piezo-optic coefficients of retardation and few interferometric measurements it is possible to acquire all absolute piezo-optic coefficients with smaller errors than with interferometric methods only.