Електроніка
Permanent URI for this communityhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/2523
Browse
3 results
Search Results
Item Теплові процеси в мікролазері неперервного режиму роботи на кристалі YAG:Nd та їх вплив на параметри лазерного випромінювання(Видавництво Львівської політехніки, 2010) Бурий, О. А.; Убізський, С. Б.; Сугак, Д. Ю.Розглядаються теплові процеси в мікролазері неперервного режиму роботи на основі кристала YAG:Nd. Визначено розподіл температури, що встановлюється в мікролазері під час генерації, а також термоіндуковані зміни показника заломлення та деформації. За відомого розподілу показника заломлення та деформацій в активному елементі мікролазера визначено компоненти (ABCD) – матриці, радіус перетяжки та розбіжність лазерної моди в широкому діапазоні значень потужності та радіуса пучка накачування, коефіцієнта тепловідведення та геометричних розмірів активного елемента. The heat processes are considered for continuous wave YAG:Nd-microlaser. The distribution of the temperature as well as the thermo-induced changes of the refraction index and the deformations is determined. At the given distributions of the refractive index and the deformations the components of (ABCD) – matrix, the laser beam waist and the divergence are determined in the wide range of the values of the pumping beam power and radius, the heat transfer coefficient and the geometrical sizes of the active element.Item Оптимізація квазітрирівневих тулієвих мікролазерів неперервного режиму роботи(Видавництво Львівської політехніки, 2012) Бурий, О. А.; Убізський, С. Б.Розроблено процедуру оптимізації квазітрирівневих мікролазерів неперервного режиму роботи, яка полягає у визначенні таких значень концентрації активатора, товщини активного середовища та коефіцієнта відбивання вихідного дзеркала, які забезпечують максимальну потужність лазерної генерації. Оптимізаційна процедура покладена в основу порівняльного аналізу активних середовищ YAG:Tm та YAP:Tm, які дозволяють отримати лазерне випромінювання з довжиною хвилі ~2 мкм. The procedure of quasi-three-level cw microlasers optimization is elaborated. The procedure consists in determination of such values of the activator concentration, active medium thickness and the output mirror reflectivity that maximizing the power of laser radiation. Based on the optimization procedure the comparative analysis is carried out for YAG:Tm– and YAP:Tm– active media allowing to obtain the laser radiation with wavelength of about 2 mm.Item Порівняльний аналіз та оптимізація параметрів мікрочіпових лазерів неперервного режиму роботи(Видавництво Львівської політехніки, 2011) Бурий, О. А.; Убізський, С. Б.; Сугак, Д. Ю.Розроблено процедуру оптимізації мікрочіпових лазерів неперервного режиму роботи. Проведено оптимізацію параметрів лазерів на основі GGG:Nd, YAP:Nd, YVO4:Nd, а також, з метою порівняння, YAG:Nd з різними довжинами хвиль генерації. Показано, що оптимальна концентрація активатора мікрочіпового лазера, що працює за чотирирівневою схемою лазерної генерації, визначається лише характером концентраційної залежності часу життя верхнього лазерного рівня. Отримано співвідношення, яке дозволяє визначити оптимальну товщину активного середовища мікрочіпового лазера. Показано, що під час забезпечення оптимальних значень параметрів лазера, диференціальний ККД та потужність випромінювання, які можуть бути досягнуті при заданій інтенсивності накачування, визначаються,переважно, величиною стоксівських втрат матеріалу. The method for optimization of the cw microchip lasers is proposed. The optimization is carried out for GGG:Nd–, YAP:Nd–, YVO4:Nd–lasers and, for comparison, for YAG:Nd–laser with different wavelengths. It is found that the optimal activator concentration for the fourth-level laser is determined only by the concentration dependence of the upper laser level lifetime. The dependence for determination of the optimal width of the active medium is obtained. It is shown that at optimal values of the laser parameters and at fixed value of the pumping beam intensity the slope efficiency and the laser power are essentially determined by Stokes losses of the material.