Inelastic-elastic properties of SiO2, SiO2 + TiO2 + ZrO2

Loading...
Thumbnail Image

Date

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

Видавництво Львівської політехніки

Abstract

A non-destructive method for the technological control of the structure defects in SiO2 + Si wafers by measuring the internal friction background difference on the nearby harmonics f1 and f2 after mechanical and heat treatments.

Description

Citation

Inelastic-elastic properties of SiO2, SiO2 + TiO2 + ZrO2 / A. P. Onanko, M. P. Kulish, O. V. Lyashenko, G. T. Prodayvoda, S. A. Vyzhva, Y. A. Onanko // Оксидні матеріали електронної техніки – отримання, властивості, застосування (ОМЕЕ – 2012) : збірник матеріалів міжнародної наукової конференції, 3-7 вересня 2012 року, Львів, Україна / Національний університет “Львівська політехніка”. – Львів : Видавництво Львівської політехніки, 2012. – С. 81–82. – Bibliography: 6 titles.

Endorsement

Review

Supplemented By

Referenced By