Eexpress method of threshold voltage control of DMOS transistors in the process of their manufacturing

dc.contributor.authorPolitansky, Leonid
dc.contributor.authorLesinsky, Valentin
dc.date.accessioned2012-09-17T12:28:01Z
dc.date.available2012-09-17T12:28:01Z
dc.date.issued2012
dc.description.abstractThere is shown the use of test structure for DMOS-structure threshold voltage control and correction.uk_UA
dc.identifier.citationPolitansky L. Eexpress method of threshold voltage control of DMOS transistors in the process of their manufacturing / Leonid Politansky, Valentin Lesinsky // Сучасні проблеми радіоелектроніки, телекомунікацій, комп'ютерної інженерії : матеріали ХІ Міжнародної конференції TCSET2012, присвяченої 60-річчю заснування радіотехнічного факультету у Львівській політехніці, 21-24 лютого 2012 року, Львів, Славське, Україна / Національний університет «Львівська політехніка». – Львів : Видавництво Львівської політехніки, 2012. – С. 448. – Bibliography: 2 titles.uk_UA
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/14381
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherВидавництво Львівської політехнікиuk_UA
dc.subjectDMOS transistorsuk_UA
dc.subjectthreshold voltageuk_UA
dc.titleEexpress method of threshold voltage control of DMOS transistors in the process of their manufacturinguk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Files

Original bundle

Now showing 1 - 1 of 1
Thumbnail Image
Name:
318.pdf
Size:
74.03 KB
Format:
Adobe Portable Document Format

License bundle

Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
2.06 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description: