Studies on sedimentation of asphaltene deposits in distillation residues

dc.contributor.authorLorek, Aneta
dc.contributor.authorPaczuski, Maciej
dc.date.accessioned2010-05-14T13:44:39Z
dc.date.available2010-05-14T13:44:39Z
dc.date.issued2007
dc.description.abstractНаведено експериментальні методи оцінки стабільності твердих речовин у дисперсіях рідин. Для характеристики дисперсійних компонентів застосовували сучасні аналітичні методи, такі, як тензіометрія, сканування і статична турбідиметрія. Показаний вплив відібраних поверхнево-активних речовин на стабільність дисперсій. Experimental methods used for the evaluation of stability of solids in liquids dispersions, are presented in this work. Modern analytical techniques, such as tensiometry, scanning and static turbidimetry, have been applied for the characterization of dispersion components. The influence of selected surface active substances on the dispersion stability has been demonstrated.uk_UA
dc.identifier.citationLorek A. Studies on sedimentation of asphaltene deposits in distillation residues / Aneta Lorek, Maciej Paczuski // Chemistry & Chemical Technology. – 2007. – Volume 1, number 3. – P. 165–173. – Bibliography: 13 titles.uk_UA
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/3366
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherPublishing House of Lviv Polytechnic National Universityuk_UA
dc.subjectдисперсіяuk_UA
dc.subjectповерхневі властивостіuk_UA
dc.subjectстабільністьuk_UA
dc.subjectвакуумний залишокuk_UA
dc.subjectdispersionuk_UA
dc.subjectsurface propertiesuk_UA
dc.subjectstabilityuk_UA
dc.subjectvacuum residueuk_UA
dc.titleStudies on sedimentation of asphaltene deposits in distillation residuesuk_UA
dc.title.alternativeДослідження седиментації асфальтенових відкладів у дистилятних залишках
dc.typeArticleuk_UA

Files

Original bundle
Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
9.pdf
Size:
218.12 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
License bundle
Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
1.71 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description: