Електроніка. – 2005. – №532

Permanent URI for this collectionhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/47491

Вісник Національного університету “Львівська політехніка”

У Віснику опубліковані результати наукові-технічних досліджень в області технологічних, експериментальних, теоретичних та методологічних проблем електроніки, фізики і техніки напівпровідників та напівпровідникового матеріалознавства, фізики твердого тіла, фізики, техніки та використання елементів, приладів та систем сучасної електронної техніки. Тематика вісника Національного університету “Львівська політехніка” “Електроніка” охоплює такі розділи електроніки: матеріали електронної техніки; фізика, технологія та виробництво елементів, приладів та систем електронної техніки; фізика і техніка напівпровідників, металів, діелектриків та рідких кристалів; експериментальні та теоретичні дослідження електронних процесів; методика досліджень. У Віснику “Електроніка” публікуються оглядові та дослідницькі роботи, присвячені його тематиці (але не обмежені лише нею). Роботи можуть бути представлені як співробітниками Львівської політехніки, так і будь-яких інших навчальних чи наукових закладів. Роботи друкуються українською мовою. Для наукових працівників, інженерів і студентів старших курсів електрофізичних та технологічних спеціальностей.

Вісник Національного університету “Львівська політехніка” : [збірник наукових праць] / Міністерство освіти і науки України, Національний університет “Львівська політехніка”. – Львів : Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”, 2005. – № 532 : Електроніка / відповідальний редактор Д. Заярчук. – 186 с. : іл.

Вісник Національного університету “Львівська політехніка”

Зміст


1
3
15
21
24
28
33
42
48
54
60
65
68
74
81
85
90
99
105
112
117
126
129
133
138
147
153
160
164
170
178
184

Content


1
3
15
21
24
28
33
42
48
54
60
65
68
74
81
85
90
99
105
112
117
126
129
133
138
147
153
160
164
170
178
184

Browse

Search Results

Now showing 1 - 2 of 2
  • Thumbnail Image
    Item
    Керування дефектністю приповерхневих шарів кремнієвої структури через зміну фононного тиску, викликаного проходженням через кристал лазерної ударної хвилі
    (Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”, 2005-03-01) Ковалюк, Богдан Павлович; Нікіфоров, Юрій Миколайович; Kovalyuk, B. P.; Nikiforov, Yu. N.; Тернопільський державний технічний університет ім. Івана Пулюя
    Для діапазону температур 290 – 450 К розраховано відносні зміни фононної складової надлишкової сили, що діє на центр розсіяння в матеріалах з різною температурою Дебая з боку лазерної ударної хвилі. Виконані на кремнієвих структурах експерименти показують перспективність керування властивостями приповерхневих шарів твердих тіл при лазерній ударно-хвильовій обробці оптимізацією температурних умов опромінення, що впливають на фононну складову сили, зумовленої ударною хвилею.
  • Thumbnail Image
    Item
    Вимірювання товщини тонкого шару рідини на поверхні твердого тіла фотоакустичним методом (числове моделювання)
    (Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”, 2005-03-01) Мокрий, О. М.; Mokryy, O. M.; Національний університет “Львівська політехніка”
    Розглянуто безконтактний фотоакустичний метод вимірювання товщини тонкого шару рідини на поверхні твердого тіла. Здійснено числове моделювання збудження акустичних хвиль за допомогою лазерного імпульсу та поширення їх в шарі рідини. Отримана залежність часових характеристик акустичного поля від фізичних властивостей та товщини шару рідини. Показана можливість визначити товщину шару рідини за часом між двома акустичними імпульсами. Проаналізовано внесок різних чинників у точність визначення товщини шару рідини. Область товщин, для яких розглядалось застосування методу, становить 30–500 мкм.