Елементи теорії та прилади твердотілої електроніки. – 2002. – №458

Permanent URI for this collectionhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/42439

Вісник Національного університету «Львівська політехніка»

У Віснику опубліковано результати науково-дослідних робіт професорсько-викладацького складу, аспірантів та докторантів електрофізичного факультету Національного університету “Львівська політехніка”, науковців та викладачів із провідних вищих закладів освіти та академічних інститутів. У Віснику публікуються роботи провідних вчених Республіки Польща та Словаччини. Тематика робіт пов’язана з питаннями теорії фізики напівпровідників та напівпровідникових приладів, теоретичними і практичними проблемами мікроелектроніки та сенсорної техніки. Для викладачів, наукових співробітників, аспірантів, інженерів, студентів.

Вісник Національного університету "Львівська політехніка" : [збірник наукових праць] / Міністерство освіти і науки України, Національний університет "Львівська політехніка. – Львів : Видавництво Національного університету «Львівська політехніка», 2002. – № 458 : Елементи теорії та прилади твердотілої електроніки / відповідальний редактор Я. С. Буджак. – 291 с. : іл.

Browse

Search Results

Now showing 1 - 3 of 3
  • Thumbnail Image
    Item
    A study of the feasibility of using low cost thick film tracks in the lower part of the microwave spectrum
    (Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Jakubowska, Małgorzata; Pitt, Keith; ITME Institute of Electronic Materials Techology, Warsaw, Poland; Middlesex University, London, UK
    Conventionally it is accepted that conductors for low microwave applications should meet a range of electrical and topographic criteria in order to perform correctly. These include a minimum thickness due to skin effects, smooth track and substrate surfaces and rectilinear geometry. The metal must also be very dense and uniform and have the highest possible electrical conductivity. As a result, photolithographically defined gold tracks are preferred and may be made in either thick or thin film.
  • Thumbnail Image
    Item
    High ohmic measurements of thick film glass layer insulators
    (Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Jakubowska, Małgorzata; Grzesiak, Wojciech; Institute of Electronic Materials Technology, Poland; Institute of Electron Technology, Poland
  • Thumbnail Image
    Item
    Thermal residual stresses in thick film structures resistor on dielectric – FEM analysis
    (Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2002) Jakubowska, Małgorzata; Golański, Dariusz; Kaliński, Dariusz; Hotra, Zenon; Lviv Polytechnic National University; Rzeszów University of Technology; Warsaw University of Technology; Institute of Electronic Materials Technology
    This paper presents the results of calculations performed using the finite element method (FEM) which include a comparative analysis of residual stress state induced in thick film structures resistors on dielectrics which differ from one another in materials used to perform dielectric layers. This analysis permitted us to test the materials examined in terms of the level and distribution of the residual stresses developed in the structure.