Осадження наноструктурованого осаду срібла на поверхні кремніюметодом гальванічного заміщення

Abstract

Наведено результати досліджень процесу осадження наноструктурованого срібла на поверхню кремнію методом гальванічного заміщення. Встановлено умови перебігу процесу, за якого у водних розчинах ціанідних комплексів та в середовищі органічних апротонних розчинників формуються мікро- та нанорозмірні осади срібла. Показано, що для модифікації кремнію лише наночастинками срібла (60…80 нм) з невеликим діапазоном розкиду їх за розмірами, визначальним є гальванічне заміщення у розчинах стійких комплексних сполук Арґентуму в DMF.The results of studies of the process of depositing of nanostructured silver on the silicon surface by the galvanic replacement method are presented in the article. The conditions of the process, in which micro and nanosized silver deposits are formed in aqueous solutions of cyanide complexes and in the environment of organic aprotic solvents, were established. It is shown that for the modification of silicon only silver nanoparticles (60 ... 80 nm) with a small range of their distribution in size are the galvanic replacement in solutions of stable complex compounds of Argentum in DMF.