Нестійкості плоского фронту кристалізації при лазерній епітаксії і легуванні напівпровідників

Loading...
Thumbnail Image

Date

2000

Journal Title

Journal ISSN

Volume Title

Publisher

Видавництво Державного університету “Львівська політехніка”

Abstract

Описано механізми формування нестійкостей плоского фронту кристалізації, які виникають при лазерній епітаксійній кристалізації напівпровідникових шарів. Запропоновано чотири основні механізми, що зумовлюють виникнення таких нестійкостей, які, в свою чергу, призводять до формування на поверхні напівпровідників комірчастої структури різної природи. Mechanisms of a planar interface instability initiation during laser epitaxy solidification of semiconductor layers are described in present paper. The main four mechanisms that determine such interface instability initiation have been proposed. These mechanisms set conditions for cellular structure of different nature formation on the semiconductor surface.

Description

Keywords

Citation

Нестійкості плоского фронту кристалізації при лазерній епітаксії і легуванні напівпровідників / О. Ю. Бончик, А. О. Загіней, С. Г. Кияк, І. П. Паливода, Г. В. Похмурська // Вісник Національного університету "Львівська політехніка". – 2000. – № 393 : Елементи теорії та прилади твердої електроніки. – С. 28–33. – Бібліографія: 5 назв.

Endorsement

Review

Supplemented By

Referenced By