Електроніка
Permanent URI for this communityhttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/2523
Browse
4 results
Search Results
Item Сучасний стан і напрямки розвитку нанометрової літографії (огляд)(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2006) Голота, В. І.; Дружинін, А. О.; Когут, І. Т.Розглянуто сучасний стан і напрямки досліджень нанометрової літографії. Наведено характеристики оптичної і альтернативних безмаскових літографій для масового виробництва ІС. Виділено напрямки досліджень і задачі, які необхідно розв’язати для створення α-версії вітчизняної матрично-емітерної літографії. Запропоновано апаратну декомпресію даних на основі модифікованого методу BWT із збільшеними буферами стискання. Запропоновано інтегровані КМОН КНІ структури на основі базових матричних кристалів для реалізації ІС, логіки, пам’яті і керування випромінювачами. The modern state and research directions of nanometer lithography are considered. Descriptions of optical and alternative maskless lithography for industrial VLSI production are presented. Research directions and tasks, which are necessary to solve for α-version of matrix emitters lithography realization are selected. The BWT hardware data decompression with extended sorting buffer is offered. The integrated CMOS SOI structures on the basis of base matrix crystals for realization of logic, memory and control VLSI for matrix emitters are offered.Item Приладно-технологічне моделювання нанорозмірних тривимірних КНІ-структур(Видавництво Львівської політехніки, 2011) Дружинін, А. О.; Когут, І. Т.; Голота, В. І.; Довгий, В. В.Проведено комплексні дослідження, спрямовані на створення тензорезистивних сенсорів тиску на основі ниткоподібних кристалів кремпію, працездатних в умовах кріогенних та високих температур. В основу конструкції сенсора покладено систему мембрана – шток – балка з універсальним тензомодулем. Наведено вихідні характеристики розроблених сенсорів. Complex studies aimed at the creating of piezoresistive pressure sensors on the basis of silicon whiskers operating at cryogenic and high temperatures were carried out. The sensor’s design is based on the diaphragm – rod – beam system with the universal strain unit. Output characteristics of the developed sensors are presented.Item Вплив електронного опромінення на ниткоподібні кристали кремнію і твердого розчину Si-Ge(Видавництво Львівської політехніки, 2011) Мар’ямова, І. Й.; Островський, І. П.; Ховерко, Ю. М.; Кутраков, О. П.; Когут, І. Т.; Лях-Кагуй, Н. С.Досліджено вплив електронного опромінення на низькотемпературну провідність і магнетоопір ниткоподібних кристалів (НК) кремнію і Si1-xGex (х=0,03) р-типу з концентрацією бору поблизу переходу метал-діелектрик (ПМД). Спостерігається кореляція між впливом електронного опромінення на опір і магнетоопір кристалів за кріогенних температур. Виконані вимірювання свідчать про радіаційну стійкість досліджених НК Si та Si1-xGex до дії опромінення високоенергетичними електронами з флюенсом Ф£1´1017ел/см2. Influence of electron irradiation on low temperature conductivity and magnetoresistance of р-type silicon and Si1-xGex (х=0,03) whiskers with boron concentration in the vicinity of metal-insulator transition (MIT) have been studied. Correlation between influence of electron irradiation on crystal resistance and magnetoresistance at cryogenic temperatures was observed. These studies show the stability of investigated Si and Si1-xGex whiskers to irradiation by high energy electrons with fluencies Ф£1´1017еl/cm2.Item Приладно-технологічне моделювання керованих автоемісійних мікрокатодів на основі тривимірних кні-структур(Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2008) Дружинін, А. О.; Голота, В. І.; Когут, І. Т.; Ховерко, Ю. М.Запропоновано два методи формування локальних тривимірних структур кремній-на-ізоляторі (КНІ). Перший – на основі стимульованого бокового епітаксійного нарощування та планаризації монокристалічної плівки кремнію. Другий – на основі локального термічного окислення кремнію під поверхнею пластини через горизонтальні тунелі. Одержані КНІ-структури використані в технології виготовлення базового матричного кристала (БМК) для побудови мікросистем. Запропоновано в склад елементів БМК долучити матриці з комірок автоемісійних мікрокатодів зі схемами керування. Розроблено технологію виготовлення і топологію комірки автоемісійного мікрокатода з керуючим високовольтним КНІ метал-окисел-напівпровідниковим транзистором. Виконано комп’ютерне моделювання статичних характеристик такого транзистора. The two methods of silicon-on-insulator (SOI) local three-dimensional structures formation are proposed. The first one is based on stimulated lateral epitaxial growth and planarization of Si monocrystal film. The second one is based on local thermal oxidation of Si buried layer through horizontal tunnels. Obtained SOI-structures are used as a base of matrix crystal fabrication technology for construction of micro-systems. It is proposed to unite cells of field emission micro-cathodes with control circuits in a structure of base of matrix crystal elements. The fabrication technology and layout of a field emission micro-cathode cell with control high-voltage SOI MOS-transistor developed. Computer simulation of static characteristics of high-voltage SOI MOS-transistor performed.